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郝晓亮; 赵英伟; 王秀海; 曹健;
中国电子科技集团公司第十三研究所 石家庄 050051;
电子束直写曝光; 邻近效应; 光刻工艺;
机译:电子束设计:一种用于批量生产的提高电子束直写吞吐量的新颖方法
机译:倍半硅氧烷抗蚀剂的电子束曝光机理的扫描X射线显微镜研究
机译:富勒烯衍生物电子束抗蚀剂的曝光机理
机译:使用TDS分析SOG电子束曝光机制
机译:电纺直写多功能纳米纤维。
机译:通过聚焦电子束感应沉积生成直写三维纳米结构的图案
机译:通过振动光谱研究和原位电子束诱导解吸研究氢倍半硅氧烷的电子束曝光机制
机译:自谐振加速度原理实验的电子束电压和电流参数研究。
机译:电子束电子束直写系统的角部校正
机译:电子束曝光机和电子束曝光罩
机译:电子束直写系统的圆角校正
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