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【2h】

Present Status of Exposure Tool Development for Low Energy Electron-beam Proximity Projection Lithography.

机译：低能量电子束接近投影光刻曝光工具开发的现状。

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Akihiro Endo; Akira Higuchi; Haruo Kasahara; Hiroshi Nozue; Nobuo Shimazu; Toyoji Fukui; Naoki Yasumitsu; Tsutomu Miyatake; Norimichi Anazawa;
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年度 2002
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1. Present Status of Exposure Tool Development for Low Energy Electron-beam Proximity Projection Lithography [J] . Akihiro Endo, Akira Higuchi, Haruo Kasahara, Journal of Photopolymer Science and Technology . 2002,第3期

机译：低能电子束邻近投影光刻的曝光工具开发现状
2. Resolution-limiting factors in low-energy electron-beam proximity projection lithography: Mask, projection, and resist process [J] . Masaki Yoshizawa, Kumiko Oguni, Hiroyuki Nakano, Journal of Vacuum Science & Technology. B, Microelectronics and Nanometer Structures . 2004,第1期

机译：低能电子束邻近投影光刻中的分辨率限制因素：掩模，投影和抗蚀剂工艺
3. Progress in proximity electron lithography: demonstration of print and overlay performance using the low-energy electron beam proximity-projection lithography β tool [J] . Shinji Omori, Shinichiro Nohdo, Shoji Nohama, Journal of Microlithography, Microfabrication, and Microsystems. (JM3) . 2004,第3期

机译：邻近电子光刻技术的进展：使用低能电子束邻近投影光刻技术β的打印和覆盖性能演示
4. Performance of the beta-tool for Low Energy Electron-beam Proximity-projection Lithography (LEEPL) [C] . Akira Yoshida, Haruo Kasahara, Akira Higuchi, Emerging Lithographic Technologies VII . 2003

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机译：电子束投影光刻掩模系统在曝光期间的热机械变形。
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机译：一种替代性的自行车通勤路线，可降低与机动车交通的距离，从而减少对超细颗粒物，呼吸系统症状和气道炎症的暴露-结构化暴露实验
7. Laser-induced Plasma X-ray Source and Its Applications. Development of Laser-plasma Soft X-ray Source for Projection Lithography. [O] . Yasuhiko NISHIMURA, Atsushi SAKATA, Hirozumi AZUMA 1999

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8. Ionenstrahllithographie: Entwicklung Eines 1:1 Proximity Projektionsverfahrens Auf der Basis von Channeling-Masken (Ion Beam Lithography: Development of a 1:1 Proximity Projection Method Based on Channeling Masks) [R] . Csepregi, L. 1986

机译：Ionenstrahllithographie：Entwicklung Eines 1：1 proximity projektionsverfahrens auf der Basis von Channeling-masken（离子束光刻：开发基于通道掩模的1：1接近投影方法）

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