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韦书领; 应明炯;
华北光电技术研究所,北京,100015;
红外探测器; 焦平面; 湿法刻蚀; 锑化铟;
机译:用于智能天线的BaSrTiO3铁电薄膜的湿法化学刻蚀研究
机译:TiN栅电极的湿法化学刻蚀和后蚀刻退火的研究,用于互补的金属氧化物半导体器件集成应用
机译:湿法化学刻蚀研究非极性GaN的刻蚀特性
机译:湿法刻蚀,离子轰击和电化学刻蚀后INP(100)晶片表面化学的Auer和LEED研究
机译:湿法处理后的晶片冲洗:模拟和实验
机译:在中红外光谱范围内通过全晶片光致发光映射探测II型InAs / GaInSb W形量子阱的亚单层均匀性
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机译:医疗保健检查:据称在费用基础护理martinsburg Va medical Center martinsburg,West Virginia发布。
机译:晶片接触装置,以及晶片的电化学刻蚀的布置和方法
机译:机械表用防震轴承的制造方法,包括将晶片引入适于各向异性刻蚀的化学刻蚀槽中,从而在单晶石英晶片中加工弹性结构和盲孔。
机译:HCl水溶液中湿法化学刻蚀制备ZnO纳米晶及其制备方法
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