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InSb晶片与Si晶片键合的方法

摘要

本发明提供了一种InSb晶片与Si晶片键合的方法。该方法包括:步骤A,将至少单面抛光的InSb晶片和Si晶片在有机溶剂中分别进行高温超声煮洗,而后用去离子水清洗;步骤B,将所述Si晶片置于酸溶液中煮洗,而后用去离子水冲洗;步骤C,将所述Si晶片置于碱溶液中煮洗,而后用去离子水冲洗;步骤E,将InSb晶片和Si晶片各自的抛光面向内进行贴合,而后将贴合后的两晶片置于真空键合机内进行热处理,以完成InSb晶片和Si晶片的键合。本发明InSb晶片与Si晶片键合的方法工艺简单,具有较强的实用性。

著录项

  • 公开/公告号CN103199156B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2015-10-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院半导体研究所;

    申请/专利号CN201310109012.3

  • 发明设计人 彭红玲;郑婉华;

    申请日2013-03-29

  • 分类号H01L31/18(20060101);

  • 代理机构11021 中科专利商标代理有限责任公司;

  • 代理人曹玲柱

  • 地址 100083 北京市海淀区清华东路甲35号

  • 入库时间 2022-08-23 09:30:09

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-06-01

    著录事项变更 IPC(主分类):H01L31/18 变更前: 变更后: 申请日:20130329

    著录事项变更

  • 2015-10-21

    授权

    授权

  • 2013-08-07

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L31/18 申请日:20130329

    实质审查的生效

  • 2013-07-10

    公开

    公开

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