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WAFER CONTACTING DEVICE, AND ARRANGEMENT AND METHOD FOR ELECTROCHEMICAL ETCHING OF A WAFER

机译:晶片接触装置,以及晶片的电化学刻蚀的布置和方法

摘要

A wafer contacting device may include: a receiving region configured to receive a wafer; and an elastically deformable carrier disposed in the receiving region and including an electrically conductive surface region.
机译:晶片接触装置可以包括:构造成接收晶片的接收区域;以及接触区域。弹性可变形载体,其设置在容纳区域中并且包括导电表面区域。

著录项

  • 公开/公告号US2015068918A1

    专利类型

  • 公开/公告日2015-03-12

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 INFINEON TECHNOLOGIES AG;

    申请/专利号US201314023577

  • 发明设计人 INGO MURI;FRIEDRICH KROENER;

    申请日2013-09-11

  • 分类号H01L21/3063;H01L21/67;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 15:26:42

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