聚焦离子束刻蚀多晶TiNi薄膜的表面形貌

摘要

报道了TiNi薄膜的聚焦离子束刻蚀特征及刻蚀后的表面形貌.测量结果表明薄膜的表面粗糙度随刻蚀深度呈非线性变化,当刻蚀深度等于0.1μm时,表面粗糙度为最小(5.26nm,刻蚀前为14.88nm);刻蚀深度小于0.1μm时,表面粗糙度随刻蚀深度的增大而减小;当刻蚀深度大于0.1μm时表面粗糙度随刻蚀深度增大而增大,其原因是刻蚀深度大于0.1μm后表面出现了清晰的周期性条纹结构.此外,表面粗糙度随聚焦离子束流的增大而减小,当离子束流为2.5 nA时,表面粗糙度从刻蚀前的14.88nm减小到4.67nm.