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韩培德; 杨海峰; 张泽; 段树坤; 滕学公;
中国科学院凝聚态物理中心;
北京电子显微镜实验室;
中国科学院半导体研究所;
光电集成国家重点实验室;
外延生长; 氮化镓; 缓冲层; 透射电子显微镜;
机译:透射电子显微镜分析AlGaN / AlN应变层超晶格在4英寸Si(111)衬底上生长的GaN层中c + a和-c + a位错之间的反应
机译:透射电子显微镜全息分析外延ZnO和GaN层中位错的电活性
机译:能量过滤透射电子显微镜分析半导体器件中残留层的化学和结构
机译:通过能量过滤电子显微镜通过能量滤光透射电子显微镜进行半导体装置中超二氧化硅层的成像
机译:III-V型化合物半导体材料表征的各种光电子器件的微结构和纳米结构的分析透射电子显微镜和高分辨率电子显微镜。
机译:接近无应变的GaN兼容缓冲层上GaN外延层中的超低穿线位错密度及其在异质外延LED中的应用
机译:透射电子显微镜研究氧化镁缓冲层的纹理发展
机译:GaAs,GaN基复合半导体的透射电子显微镜样品的制备及其层状结构分析
机译:样品例如晶体管,用于透射电子显微镜分析的半导体器件的制备方法,涉及在样品上进行电子束辅助沉积保护层
机译:形成样本保护层的方法以及使用该样本保护层的分析样本的透射电子显微镜的制造方法
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