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许铭真; 谭长华; 段小蓉;
北京大学微电子研究院;
北京;
100871 北京大学微电子研究院;
100871;
超薄SiO2; 软击穿; I-V饱和特性;
机译:超薄二氧化硅中击穿后I-V特性的两阱辅助隧穿模型
机译:超薄氧化层软击穿后栅极和衬底电流的性质
机译:MOS结构中超薄氧化物的硬击穿I-V特性的函数拟合模型
机译:超薄栅极氧化物中的软击穿(SBD)后的漏电流路径的电子速度饱和和可能的横截面积
机译:非晶硅太阳能电池中的暗I-V特性和缺陷状态。
机译:酸性水电化学环境中Si / SiO2阴极的介电击穿和击穿后溶解
机译:SiO2超薄薄膜软击穿破坏模式的介观研究
机译:具有快速生长的超薄siO2栅极绝缘体的mOs(金属氧化物半导体)器件的界面和击穿特性。
机译:I-V特性测量装置,I-V特性测量方法和用于I-V特性测量装置的程序
机译:太阳能电池的I-V特性测量设备和I-V特性测量方法,以及录制有I-V特性测量设备的程序的记录介质
机译:用于太阳能电池的I-V特性测量设备和I-V特性测量方法,以及记录有用于I-V特性测量设备的程序的记录介质
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