光刻胶发展概述

摘要

网络信息时代,各种电子设备出现在我们的生活当中,随着科学技术和工艺的不断进步,电子设备变得越来越智能化和微型化,在满足多功能的同时也要满足便携性.紫外光刻和纳米压印技术作为生产微型电路的两大主要方式,具有高分辨率、低成本和高效率等优点,受到大家的高度关注.而这两大技术中的一个关键组成部分就是光刻胶(抗蚀剂),本文将介绍光刻胶的基本性能要求、最新应用领域、面临的问题及解决方法.