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分区域精确调控光刻胶成膜形貌方法研究

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摘要

本文介绍了一种不改变配方前提下分区域精确调控光刻胶形貌的方法,并通过理论分析调整原理,结合实验通过调整涂胶过程中晶圆上方供风状态,研究可控不均匀供风其对成膜过程的影响,总结了快速获得所需形貌的工艺方法.

著录项

来源
《黑龙江科技信息》 |2021年第12期|1-2|共2页
作者
朴勇男; 王惠生; 邢栗; 张晨阳;
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作者单位

沈阳芯源微电子设备股份有限公司辽宁沈阳 110000;

沈阳芯源微电子设备股份有限公司辽宁沈阳 110000;

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沈阳芯源微电子设备股份有限公司辽宁沈阳 110000;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类光刻、掩膜;
关键词
涂胶; 形貌; 精确控制;

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