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MA Yangyang; 马阳阳;
中国物理学会;
中国光学光电子行业协会;
光刻胶; 性能分析; 生产工艺; 液晶面板;
机译:东京Oka,最新的光刻胶发展趋势实现了不冻结的双重图案开发与EUV光刻兼容的光刻胶技术
机译:等离子体处理中高级光刻胶材料表面粗糙度发展和网状化机理的实时研究
机译:使用O_2 / N_2中压等离子体射流通过高速晶圆扫描去除光刻胶:单层光刻胶研究
机译:液晶面板垫片的新型光刻胶
机译:高级光刻胶材料的设计和研究:减少环境影响的正性光刻胶和用于157 nm光刻的材料。
机译:混凝土中循环利用液晶面板废料的利用
机译:用于ArF光刻胶的光刻胶下层抗反射涂层和间隙填充材料的研究
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机译:光刻胶成分,液晶面板用垫片的形成方式,垫片和液晶面板用的液晶面板无效
机译:研究发展计划表研究发展计划表和记录介质
机译:光致抗蚀剂组成,使用相同的光刻胶薄膜的方法以及使用相同的光刻胶液晶面板的制造方法
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