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M. Liebens; J. Slabbekoorn; A. Miller; E. Beyne; M. Stoerring; S. Hiebert; A. Cross;
Imec, 比利时鲁汶;
KLA-Tencor 公司, 美国加州米尔必达;
机译:将3D凸块的间距从20 pm扩展到10 pm,重点放在湿法Cu种子蚀刻工艺开发上
机译:基础研究20μm间距精细Au凸块交界处
机译:具有高带宽堆叠DRAM的节电LSI器件的精细间距Cu重新分布布线和SnCu微凸块的工艺集成
机译:20μm间距微凸块的热压缩粘合,具有预应用的欠填充工艺和可靠性
机译:激光辐照热成像微缺陷检测工艺研究
机译:20岁以下个体瞳孔间距离与内外can间距离的相关性
机译:埋入聚合物中的Cu和CuNiSn微型凸块的表面平坦化,用于间距小于20μm的3DIC应用
机译:在快速充电条件下((插入符号)20 ns及以下)和高压(20-100气氛)下的选择气体的击穿场和上升时间
机译:针对20nm以下鳍步骤的新型自对准四重图案化工艺
机译:产生针对多肽的抗体的方法,在其中产生的抗体,与多肽结合的抗体或抗体片段,减少或抑制il-20诱导的造血细胞和造血细胞祖细胞增殖或分化,减少il-20诱导的增殖的方法炎症,抑制发炎的哺乳动物的炎症反应,治疗患有炎症性疾病的哺乳动物,治疗与il-20活性相关的患者的病理状况
机译:多发性硬化症的治疗,包括针对55岁以下和/或感染淋巴结和/或至少一个EDSS点和/或五个以上MSS评分的患者的抗CD20抗体;诊断方法及产品制造。
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