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李小刚; 唐晓东;
中国科学院上海光学精密机械研究所;
华东师范大学电子工程系;
光学常数; NiOx薄膜; 溅射参数;
机译:氧分压对反应性直流磁控溅射沉积NiO_x薄膜光学性能的影响
机译:脉冲频率引起的脉冲直流磁控溅射WO_3薄膜光学常数和色散能量参数的变化
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机译:工艺参数对非晶硅薄膜光学常数的影响
机译:溅射参数对RF磁控溅射沉积ITO膜的影响
机译:磁控溅射高熵膜的生长机理及沉积参数对结构和性能的影响
机译:铟和氢共掺杂对DC磁控溅射沉积的氧化锌薄膜光学和电性能的影响
机译:磁控溅射工艺参数对非晶碳薄膜电性能的影响
机译:含氟有机硅化合物薄膜光学常数的测量方法
机译:超薄薄膜光学常数的快速测量方法
机译:一种确定薄膜光学常数的方法
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