机译:氧分压对反应性直流磁控溅射沉积NiO_x薄膜光学性能的影响
Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai 201800;
thin films; optical properties; materials and process characterization; optical storage-recording materials; spectroscopy; semiconductors;
机译:反应性直流磁控溅射沉积NiO_x薄膜的热,结构和光学性质
机译:氧和氢分压对反应性射频磁控溅射沉积ITO膜的结构和光学性能的影响
机译:氧分压对反应溅射沉积ZnO薄膜结构和光学性能的影响
机译:总反应直流磁控溅射沉积的TiO_2薄膜结构和亲水性的影响
机译:微观结构 和组成 的可调性 在 溅射沉积 过渡金属 碳化物 薄膜 使用 超低 反应 气体压力 和2D 层
机译:N2分压对液靶反应磁控溅射外延沉积GaN纳米棒生长结构和光学性能的影响
机译:直流反应磁控溅射沉积的TiO2薄膜的氧分压依赖性