直流磁控溅射功率对ITO薄膜光学性能的影响

摘要

本实验的ITO薄膜样品是利用直流磁控溅射技术在玻璃基片上沉积而成的。通过改变溅射功率，研究不同溅射功率对ITO薄膜光学性能的影响。经各实验测试后发现：在实验给定的功率区间内，ITO薄膜的厚度随着溅射功率的增加而增加，其可见光透过率则随之降低。