机译:退火温度对射频磁控溅射碳镍复合薄膜光学损耗和光学常数的影响
Co-sputtering; Amorphous carbon matrix; Carbon-nickel films; Annealing temperatures;
机译:退火温度对射频磁控溅射碳镍复合薄膜光学损耗和光学常数的影响
机译:低温缓冲,射频功率和退火对射频磁控溅射生长的ZnO / Al_2O_3(0001)薄膜的结构和光学性能的影响
机译:射频磁控溅射制备的超光滑纳米BiVO_4纳米晶薄膜的光学常数,色散能参数和介电性能
机译:通过快速热退火结晶化工程化溅射非晶硅膜的光学常数
机译:(100)硅上溅射镍钛薄膜的等温和等时退火过程中的应力演变。
机译:退火对溅射生长铋钛氧化物薄膜结构和光学性能的影响
机译:错误:“低温缓冲液,RF功率和退火对由RF-磁控溅射生长的ZnO / Al2O3(0001)薄膜结构和光学性质的影响”J。苹果。物理。 106,023511(2009)