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刘云峰; 陈国平;
东南大学电子工程系;
干法刻蚀; 微细加工; VLSI;
机译:使用激光诱导的背面干法刻蚀技术生产亚微米级熔融石英光栅
机译:利用ICP干法刻蚀转移全息抗蚀剂掩模制造高纵横比的熔融石英亚微米光栅
机译:入射离子束角对沉积在Si衬底上的硅亚微米颗粒干法刻蚀的影响
机译:用于高形貌亚微米和纳米器件的硅干法刻蚀工艺
机译:分析亚微米和深亚微米技术中加法器和乘法器的基于IP的实现。
机译:不同氟基混合气体使用电感耦合等离子体干法刻蚀钛酸钡薄膜的比较分析
机译:半导体干法刻蚀技术及中性氟自由基控制的研究
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机译:监控技术设备技术现状的系统和方法
机译:不使用亚微米光刻技术的亚微米图案化
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