机译:入射离子束角对沉积在Si衬底上的硅亚微米颗粒干法刻蚀的影响
FEMAN Group, IN~2UB, University of Barcelona, Marti i Franques, 1, E-08028 Barcelona, Spain;
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SOC&SAM Group, IN~2UB, University of Barcelona, Marti i Franques, 1, E-08028 Barcelona, Spain;
SOC&SAM Group, IN~2UB, University of Barcelona, Marti i Franques, 1, E-08028 Barcelona, Spain;
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silica submicroparticle; sol-gel; langmuir-blodgett technique; dry-etching; nanopatterning;
机译:利用ICP干法刻蚀转移全息抗蚀剂掩模制造高纵横比的熔融石英亚微米光栅
机译:在乙酸气氛中使用气体团簇离子束进行金属蚀刻的入射角依赖性
机译:在乙酸气氛中使用气体团簇离子束进行金属蚀刻的入射角依赖性
机译:分子动力学模拟在干蚀刻过程中石英底物温度对低能氩离子轰击模型的影响
机译:等电聚焦在填充有亚微米级二氧化硅颗粒的毛细管和通道中。
机译:通过蚀刻颗粒雕刻二氧化硅胶体。成分不均
机译:具有熏蒸二氧化硅的滑石颗粒的干涂层:二氧化硅浓度对复合颗粒的润湿性和分散性的影响
机译:利用软X射线的小角度衍射确定亚微米粒子的方法