University of Houston.;
机译:纳米级原子光刻理论。从头开始研究“冷” Cs原子与Au(111)上的有机硫醇自组装单分子层的相互作用
机译:抑制纳米级电子束诱导刻蚀的自然刻蚀:极端紫外光刻掩模的纳米级修复解决方案
机译:负电子束抗蚀剂硬掩模离子束刻蚀工艺用于制造纳米级磁性隧道结
机译:通过使用掩模的快速原子束(Fab)制造装置的掩模和蚀刻制造的提案
机译:高度芳族单分子蚀刻掩模的抗蚀刻性机理和发展:迈向分子光刻。
机译:纳米级磨损法:纳米级原子磨损的非经验法(ADV。SCI。2/2021)
机译:低能量电子束接近投影光刻曝光工具开发的现状。
机译:采用聚焦离子束光刻技术的亚100nm X射线掩模技术。