Tyndall National Institute, University College Cork, Lee Mailings, Prospect Row, Cork, Ireland.;
机译:(100)-Si / SiO_2 / HfO_2 / TiN栅堆叠中界面缺陷的表征和钝化
机译:H_2 / N_2退火对Si(100)/ SiO_2 / HfO_2 / TiN栅堆叠中界面缺陷密度的影响
机译:双层(sio_2 / hfo_2)栅极电介质N型金属氧化物半导体场效应晶体管中电活性缺陷的空间分布
机译:Si(100) - HFO_2接口的电活性缺陷分析
机译:使用电流传输和瞬态电容测量来表征Nb / Si界面上的电活性缺陷
机译:CDTI工艺上具有钨屏蔽测试结构的BSI全局快门像素上的背面接口的电气特性
机译:应变对凝结生长具有纳米GexSi1-x层的SiO2 / GexSi1-x / SiO2 /(100)Si结构的Ge悬空键界面缺陷的钝化效率的影响
机译:晶体硅太阳能电池中电活性缺陷的氢钝化