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Proceedings vol.2005-01; Electrochemical Society(ECS) Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics; 20050516-20; Quebec City(CA)
Proceedings vol.2005-01; Electrochemical Society(ECS) Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics; 20050516-20; Quebec City(CA)
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1.
TENSILE CONTACT ETCH STOP SILICON NITRIDE FOR NMOS PERFORMANCE ENHANCEMENT: INFLUENCE OF THE FILM MORPHOLOGY
机译:
用于NMOS性能增强的拉伸接触式止蚀硅氮化物:薄膜形态的影响
作者:
P. Morin
;
C. Chaton
;
C. Reddy
;
C. Ortolland
;
M.T. Basso
;
F. Arnaud
;
K. Barla
会议名称:
《Proceedings vol.2005-01; Electrochemical Society(ECS) Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics; 20050516-20; Quebec City(CA)》
|
2005年
2.
ROOM TEMPERATURE DEPOSITED SiN: CHARACTERISATION AND APPLICATIONS IN MMICs
机译:
室温沉积的SiN:表征及其在MMIC中的应用
作者:
K. Elgaid
;
H. Zhou
;
C.D.W. Wilkinson
;
I. G. Thayne
会议名称:
《Proceedings vol.2005-01; Electrochemical Society(ECS) Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics; 20050516-20; Quebec City(CA)》
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2005年
3.
POROSITY AND CRITICAL PROPERTIES OF SILICA-BASED LOW-DIELECTRIC-CONSTANT MATERIALS
机译:
二氧化硅基低介电常数材料的孔隙率和临界性能
作者:
M. R. Baklanov
;
Y. Travaly
;
Q. T. Le
;
D. Shamiryan
;
S. Vanhaelemeersch
会议名称:
《Proceedings vol.2005-01; Electrochemical Society(ECS) Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics; 20050516-20; Quebec City(CA)》
|
2005年
4.
POINT DEFECTS AND TRAPS IN STACKS OF ULTRATHIN HIGH-κ METAL OXIDES ON Si PROBED BY ELECTRON SPIN RESONANCE: THE Si/HFO_2 SYSTEM AND N INCORPORATION
机译:
电子自旋共振在Si上超薄高k金属氧化物的点缺陷和陷阱:Si / HFO_2系统和N结合
作者:
A. Stesmans
;
V. V. Afanasev
;
K. Clemer
;
F. Chen
;
S. A. Campbell
会议名称:
《Proceedings vol.2005-01; Electrochemical Society(ECS) Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics; 20050516-20; Quebec City(CA)》
|
2005年
5.
ELECTRICAL CHARACTERIZATION OF HIGH K DEVICES: CHARGES AND TRAPS EFFECTS ON INSTABILITY, RELIABILITY AND MOBILITY BEHAVIOUR
机译:
高K器件的电气特性:电荷和陷阱对不稳定性,可靠性和移动性行为的影响
作者:
G. Reimbold
;
J. Mitard
;
M. Casse
;
X. Garros
;
C. Leroux
;
L. Thevenod
;
F. Martin
会议名称:
《Proceedings vol.2005-01; Electrochemical Society(ECS) Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics; 20050516-20; Quebec City(CA)》
|
2005年
6.
ELECTRICALLY ACTIVE INTERFACE DEFECTS IN Si/SiO_2 AND Si(100)/HfO_2 STRUCTURES
机译:
Si / SiO_2和Si(100)/ HfO_2结构中的电活性界面缺陷
作者:
P.K.Hurley
;
B.J.OSullivan
会议名称:
《Proceedings vol.2005-01; Electrochemical Society(ECS) Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics; 20050516-20; Quebec City(CA)》
|
2005年
7.
EFFECT OF POST NITRIDATION ANNEAL ON PHYSICAL PROPERTIES OF PLASMA NITRIDED OXIDES
机译:
氮化后处理对血浆氮化氧化物物理性质的影响
作者:
J.Bienacel
;
D.Barge
;
P.Garnier
;
M.Bidaud
;
L.Vishnubhotla
;
I.Pouilloux
;
K.Barla
会议名称:
《Proceedings vol.2005-01; Electrochemical Society(ECS) Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics; 20050516-20; Quebec City(CA)》
|
2005年
8.
DEVELOPMENT METHODOLOGY FOR HIGH-κ GATE DIELECTRICS ON Ⅲ-Ⅴ SEMICONDUCTORS: Ga_2O_3 TEMPLATE ON GaAs
机译:
Ⅲ-Ⅴ族半导体上高κ门介电体的开发方法:GaAs上的Ga_2O_3模板
作者:
Matthias Passlack
会议名称:
《Proceedings vol.2005-01; Electrochemical Society(ECS) Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics; 20050516-20; Quebec City(CA)》
|
2005年
9.
ANGLE-RESOLVED PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY STUDY ON GATE INSULATORS
机译:
门绝缘子的角度分辨光电子能谱研究
作者:
H. Nohira
;
N. Tamura
;
J. Ushio
;
T. Hattori
会议名称:
《Proceedings vol.2005-01; Electrochemical Society(ECS) Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics; 20050516-20; Quebec City(CA)》
|
2005年
10.
NITROGEN PROFILE AND ELECTRICAL PROPERTIES OF REOXIDIZED THERMALLY GROWN SILICON NITRIDES
机译:
氧化态热生长氮化硅的氮特性和电性能
作者:
A. Ludsteck
;
J. Schulze
;
I. Eisele
;
W. Dietl
;
H. Chung
;
Z. Nenyei
;
A. Bergmaier
;
G. Dollinger
会议名称:
《Proceedings vol.2005-01; Electrochemical Society(ECS) Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics; 20050516-20; Quebec City(CA)》
|
2005年
11.
NEGATIVE BIAS TEMPERATURE INSTABILITY IN ULTRA-THIN SION
机译:
超薄负偏压的温度不稳定性
作者:
Yuichiro Mitani
;
Hideki Satake
;
Akira Toriumi
会议名称:
《Proceedings vol.2005-01; Electrochemical Society(ECS) Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics; 20050516-20; Quebec City(CA)》
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2005年
12.
NEGATIVE-BIAS-TEMPERATURE INSTABILITY IN Si/SiO_2 AND Si/SiO_xN_y STRUCTURES
机译:
Si / SiO_2和Si / SiO_xN_y结构中的负偏压温度不稳定性
作者:
A.G. Revesz
;
H. L. Hughes
会议名称:
《》
|
2005年
13.
LOW-K DIELECTRICS: IMPLICATIONS TO NANOELECTRONIC AND PHOTONIC APPLICATIONS
机译:
低介电常数:对电子和光子学应用的启示
作者:
Hong Zhou
;
Frank G. Shi
;
Bin Zhao
;
Jiro Yota
会议名称:
《Proceedings vol.2005-01; Electrochemical Society(ECS) Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics; 20050516-20; Quebec City(CA)》
|
2005年
14.
INVESTIGATION AND CHARACTERISATION OF MIM STRUCTURES BASED ON MOCVD AND PEALD DEPOSITED Ta_2O_5 FILMS
机译:
基于MoCVD和沉积的Ta_2O_5薄膜的MIM结构的研究与表征。
作者:
E. Deloffre
;
C. Wyon
;
M. Gros-Jean
会议名称:
《Proceedings vol.2005-01; Electrochemical Society(ECS) Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics; 20050516-20; Quebec City(CA)》
|
2005年
15.
HYDROGEN MODEL FOR NEGATIVE BIAS TEMPERATURE INSTABILITIES IN MOS GATE DIELECTRICS
机译:
MOS门介质中负偏压温度不稳定性的氢模型。
作者:
D. M. Fleetwood
;
X. J. Zhou
;
L. Tsetseris
;
S. T. Pantelides
;
R. D. Schrimpf
会议名称:
《Proceedings vol.2005-01; Electrochemical Society(ECS) Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics; 20050516-20; Quebec City(CA)》
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2005年
16.
PLASMA TREATMENTS AND PECVD DIELECTRIC DEPOSITION IMPACT ON POROUS SiOC
机译:
等离子体处理和PECVD介电沉积对多孔SiOC的影响
作者:
V. Jousseaume
;
P. Maury
;
Ch. Le Cornec
;
A. Zenasni
;
B. Remiat
;
F. Fusalba
;
G. Passemard
会议名称:
《Proceedings vol.2005-01; Electrochemical Society(ECS) Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics; 20050516-20; Quebec City(CA)》
|
2005年
17.
PECVD-INDUCED DAMAGE ON ULTRA THIN SIO_2 LAYERS
机译:
PECVD引起的超薄SIO_2层损伤
作者:
G. Cellere
;
A. Paccagnella
;
M.G. Valentini
会议名称:
《Proceedings vol.2005-01; Electrochemical Society(ECS) Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics; 20050516-20; Quebec City(CA)》
|
2005年
18.
OPTICAL PROPERTIES OF NANOSTRUCTURES BASED ON SILICON RICH SILICON OXIDE (SRSO) THIN FILMS
机译:
基于富硅氧化硅(SRSO)薄膜的纳米结构的光学性质
作者:
T. Roschuk
;
J. Wojcik
;
D. Comedi
;
M. J. Flynn
;
E. A. Irving
;
O. H. Y. Zalloum
;
P. Mascher
会议名称:
《Proceedings vol.2005-01; Electrochemical Society(ECS) Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics; 20050516-20; Quebec City(CA)》
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2005年
19.
STUDY OF HYDROGEN DESORPTION FROM PECVD SILICON NITRIDE AND INDUCED DEFECT PASSIVATION
机译:
PECVD氮化硅中氢脱附及缺陷钝化的研究
作者:
D. Benoit
;
P. Morin
;
J. L. Regolini
会议名称:
《Proceedings vol.2005-01; Electrochemical Society(ECS) Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics; 20050516-20; Quebec City(CA)》
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2005年
20.
STRESS CONTROL OF Si-BASED PECVD DIELECTRICS
机译:
硅基PECVD介质的应力控制
作者:
K. D. Mackenzie
;
D. J. Johnson
;
M. W. DeVre
;
R. J. Westerman
;
B. H. Reelfs
会议名称:
《Proceedings vol.2005-01; Electrochemical Society(ECS) Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics; 20050516-20; Quebec City(CA)》
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2005年
21.
RECENT DEVELOPMENT OF CMOS TECHNOLOGY WITH Hf- BASED HIGH-k DIELECTRIC
机译:
基于Hf的High-k电介质的CMOS技术的最新进展
作者:
S. C. Song
;
G. Bersuker
;
Z. 7hang
;
B. H. Lee
;
C. Huffman
;
S. H. Bae
;
J. H. Sim
;
P. Kitrsch
;
P. Majhi
;
N. Moumen
;
C. Ramiller
会议名称:
《Proceedings vol.2005-01; Electrochemical Society(ECS) Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics; 20050516-20; Quebec City(CA)》
|
2005年
22.
PROPERTIES OF HIGH K AND EXTREMELY THIN SILICON NITRIDE STACKS
机译:
高K和极薄硅氮化物层的性质
作者:
Z. Zhang
;
Y. Fedorenko
;
L. Truong
;
X. Shi
;
V. Afanasev
;
A. Stesmans
;
S. A. Campbell
会议名称:
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|
2005年
23.
PRESENT RELIABILITY ISSUES IN ULTRATHIN OXINITRIDE FILMS
机译:
超薄氧化膜的当前可靠性问题
作者:
B. Kaczer
;
R. Degraeve
;
V. Arkhipov
;
G. Groeseneken
会议名称:
《Proceedings vol.2005-01; Electrochemical Society(ECS) Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics; 20050516-20; Quebec City(CA)》
|
2005年
24.
PROCESS EFFECTS AND CHARACTERIZATION OF Hf-based DIELECTRICS
机译:
Hf基介电材料的过程效应和表征
作者:
Jack C. Lee
;
S. Rhee
;
C. Kang
;
C. Choi
;
S. Krishnan
;
I. Ok
;
M. Akbar
;
H. Kim
;
F. Zhu
;
M. Zhang
;
T. Lee
会议名称:
《Proceedings vol.2005-01; Electrochemical Society(ECS) Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics; 20050516-20; Quebec City(CA)》
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2005年
25.
FAR- AND MID-INFRARED ABSORPTION STUDY OF HfO_2/SiO_2/Si SYSTEM
机译:
HfO_2 / SiO_2 / Si体系的远红外和中红外吸收研究
作者:
A. Toriumi
;
K. Tomida
;
H. Shimizu
;
K. Kita
;
K. Kyuno
会议名称:
《Proceedings vol.2005-01; Electrochemical Society(ECS) Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics; 20050516-20; Quebec City(CA)》
|
2005年
26.
ON THE TRAPPING KINETICS OF ELECTRON TRAPS CREATED IN SILICON DIOXIDES
机译:
硅氧化物中电子陷阱的俘获动力学
作者:
M. H. Chang
;
J. F. Zhang
会议名称:
《Proceedings vol.2005-01; Electrochemical Society(ECS) Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics; 20050516-20; Quebec City(CA)》
|
2005年
27.
ONSET OF DIELECTRIC BREAKDOWN IN LPCVD SILICON OXYNITRIDE THIN FILMS
机译:
LPCVD硅氧薄膜的介电击穿的开始
作者:
S. Habermehl
;
R. T. Apodaca
会议名称:
《Proceedings vol.2005-01; Electrochemical Society(ECS) Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics; 20050516-20; Quebec City(CA)》
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2005年
28.
PULSED METALORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION OF IRON OXIDES AND BISMUTH - IRON OXIDES
机译:
氧化铁和铋的脉冲金属有机化学气相沉积。
作者:
THERY Jessica
;
BARON Thierry
;
DUBOURDIEU Catherine
;
TERNON Celine
;
PELISSIER Bernard
;
ROUSSEL Herve
;
COINDEAU Stephane
会议名称:
《Proceedings vol.2005-01; Electrochemical Society(ECS) Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics; 20050516-20; Quebec City(CA)》
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2005年
29.
CHEMICAL MECHANICAL POLISHING (CMP) OF UNDOPED AND DOPED CERAMIC AND POLYMERIC INTERLAYER DIELECTRIC (ILD) MATERIALS FOR MICROELECTRONIC APPLICATIONS
机译:
微电子应用中非掺杂和掺杂的陶瓷和聚合物中间层介电材料的化学机械抛光(CMP)
作者:
Parshuram B. Zantye
;
Ashok Kumar
;
J. Yota
会议名称:
《Proceedings vol.2005-01; Electrochemical Society(ECS) Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics; 20050516-20; Quebec City(CA)》
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2005年
30.
AN INVESTIGATION OF POSITIVE CHARGES FORMED DURING NEGATIVE BIAS TEMPERATURE STRESS
机译:
负偏置温度应力形成的正电荷的研究
作者:
M. H. Chang
;
J. F. Zhang
会议名称:
《Proceedings vol.2005-01; Electrochemical Society(ECS) Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics; 20050516-20; Quebec City(CA)》
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2005年
31.
A METHOD FOR STUDYING THE DIFFERENT KINDS OF TRAPS AT THE Si-SiO_2 INTERFACE IN MOS DEVICES
机译:
研究MOS器件中Si-SiO_2界面上不同种类陷阱的方法
作者:
Y. Maneglia
;
D. Bauza
会议名称:
《Proceedings vol.2005-01; Electrochemical Society(ECS) Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics; 20050516-20; Quebec City(CA)》
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2005年
32.
CHARACTERISTICS OF ORGANIC FILM DEPOSITED BY PLASMA-ENHANCED CVD USING BCB RESIN
机译:
使用BCB树脂等离子增强CVD沉积有机膜的特性
作者:
Suehiro Sugitani
;
Hideaki Matsuzaki
;
Takatomo Enoki
会议名称:
《Proceedings vol.2005-01; Electrochemical Society(ECS) Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics; 20050516-20; Quebec City(CA)》
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2005年
33.
CHARGING DAMAGE DURING PLASMA ENHANCED SILICON NITRIDE/OXIDE THIN FILM DEPOSITION
机译:
等离子体增强氮化硅/氧化物薄膜沉积过程中的充电损坏
作者:
Kin P. Cheung
会议名称:
《Proceedings vol.2005-01; Electrochemical Society(ECS) Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics; 20050516-20; Quebec City(CA)》
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2005年
34.
HIGH DENSITY PLASMA GROWTH OF THERMAL QUALITY SIO_2 THIN FILMS
机译:
SIO_2薄膜的高密度等离子体生长质量
作者:
P. C. Joshi
;
Y. Ono
;
A. T. Voutsas
;
J. W. Hartzell
会议名称:
《Proceedings vol.2005-01; Electrochemical Society(ECS) Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics; 20050516-20; Quebec City(CA)》
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2005年
35.
IMPORTANCE OF INTERFACE TRAPS ON DIELECTRIC CHARACTERISTICS OF NANOMETER-THICK GATE INSULATORS
机译:
界面陷阱对纳米厚门绝缘子介电特性的重要性
作者:
Yasushiro Nishioka
会议名称:
《Proceedings vol.2005-01; Electrochemical Society(ECS) Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics; 20050516-20; Quebec City(CA)》
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2005年
36.
NOVEL CHARACTERIZATION TECHNIQUES FOR INTERFACE RELATED DEFECTS IN SEMICONDUCTOR-INSULATOR SYSTEMS
机译:
半导体绝缘体系统中与界面有关的缺陷的新型表征技术
作者:
B. Hamilton
;
M. Ishii
;
A. R. Peaker
会议名称:
《Proceedings vol.2005-01; Electrochemical Society(ECS) Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics; 20050516-20; Quebec City(CA)》
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2005年
37.
NITRIFICATION OF SEMICONDUCTOR SURFACES FOR IMPROVED PROPERTIES OF ELECTRICAL AND OPTICAL DEVICES
机译:
半导体表面的氮化处理,以改善电气和光学设备的性能
作者:
Christofer Silfvenius
;
Yanting Sun
;
Peter Blixt
;
Carsten Lindstroem
;
Alfred Feitisch
会议名称:
《Proceedings vol.2005-01; Electrochemical Society(ECS) Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics; 20050516-20; Quebec City(CA)》
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2005年
38.
MULTIFUNCTIONAL OXIDES ON Si
机译:
Si上的多功能氧化物
作者:
A.M. Grishin
会议名称:
《Proceedings vol.2005-01; Electrochemical Society(ECS) Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics; 20050516-20; Quebec City(CA)》
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2005年
39.
METALLIZATION OF SEALED POROUS MSQ
机译:
密封多孔MSQ的金属化
作者:
Timothy S. Cale
;
Dae-Lok Bae
;
Christopher Jezewski
;
Jay J. Senkevich
会议名称:
《Proceedings vol.2005-01; Electrochemical Society(ECS) Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics; 20050516-20; Quebec City(CA)》
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2005年
40.
PHYSICAL MECHANISMS OF ULTRA-THIN SILICON DIOXIDE DEGRADATION AND BREAKDOWN
机译:
超薄二氧化硅降解和分解的物理机理
作者:
Eric M. Vogel
会议名称:
《Proceedings vol.2005-01; Electrochemical Society(ECS) Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics; 20050516-20; Quebec City(CA)》
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2005年
41.
OXIDE AND HOT CARRIER RELIABILITY STUDIES FOR STRAINED Si-ON RELAXED SiGe MOS DEVICES
机译:
应变Si-on弛豫SiGe MOS器件的氧化物和热载流子可靠性研究
作者:
S. Joshi
;
D. Ahmad
;
M. Palard
;
D. Kelly
;
D. Onsongo
;
S. Dey
;
L. Fei
;
T. Torack
;
M.Seacrist
;
B. Kellerman
;
S.K. Banerjee
会议名称:
《Proceedings vol.2005-01; Electrochemical Society(ECS) Meeting and Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dieletrics; 20050516-20; Quebec City(CA)》
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2005年
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