ASML MaskTools, (*ASML TDC), 4800 Great America Parkway, Suite 500, Santa Clara, CA 95054, USA;
resolution enhancement technology; RET; scattering bars; SB; model-based SB; chromeless phase lithography; CPL; Double Dipole Lithography; DDL; low k_1 lithography; interference mapping lithography; IML;
机译:高级光学光刻中减毒相移掩模的三维掩模效应研究
机译:掩模移位和掩模旋转的光刻技术制备亚微米结构的新方法
机译:Si-O-N-F膜的光学特性,用作157 nm光刻的相移掩模材料
机译:Ret Passks为光学光刻的最终前沿
机译:无光掩模光刻的热驱动微快门阵列器件
机译:高度对准的聚合物纳米线蚀刻掩模光刻可实现石墨烯纳米孔晶体管的整合
机译:GDOSII:用于设计衍射光学元件的软件和GDSII光刻文件的相位掩模转换
机译:使用光学光刻和相移掩模制造的红外频率选择表面