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佟军民; 胡松; 李爱敏; 谢常青;
中国科学院光电技术研究所,成都,610209;
中国科学院研究生院,北京,100039;
河南许昌职业技术学院,河南许昌,461000;
中国科学院微电子研究所,北京,100029;
无掩模光刻; 波带片; 多孔透镜; 分辨率; 光刻对比度;
机译:无掩模直接激光写入纳米光刻的一种新颖设计:衍射光学元件和非线性吸收无机抗蚀剂的组合
机译:无掩模投影浆料立体光刻技术在制备氧化锆牙冠中的应用
机译:无掩模光刻技术在半导体制造中的经济应用潜力
机译:在ARF光刻中的无晶态光刻(CPL)掩模的应用
机译:动态无掩模全息光刻及其应用。
机译:基于一步法无掩模灰度光刻的具有任意表面轮廓的微光学元件的制备
机译:GDOSII:用于设计衍射光学元件的软件和GDSII光刻文件的相位掩模转换
机译:maNN:将衍射光学元件的设计转移到maNN光刻掩模发生器的程序
机译:用于无掩模光刻的衍射光学元件的制造和复制的系统和方法
机译:用于无掩模光刻的衍射光学元件的全息制造和复制的系统和方法
机译:用于无掩模光刻的衍射光学元件的制造方法
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