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机译:Si-O-N-F膜的光学特性,用作157 nm光刻的相移掩模材料
Department of Materials Science and Engineering Korea Advanced Institute of Science and Technology Daejeon 305-701 Korea;
Si-O-N-F; phase shift mask; refractive index; extinction coefficient; transmittance; 157 nm;
机译:用于157 nm光刻的相移掩模上的非晶硅薄膜的光学特性
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