机译:通过热等离子体CVD法制备TiBC,TiBN,SiN {sub} x单层膜和TiBC-SiN {sub} x和TiBN-SiN {sub} x双层膜并评估其耐磨性
机译:通过热等离子体CVD方法制备TIBC,TIBN,SIN {SUB} X单层膜和TIBC-SIN {SUB} X和TIBN-SIN {SUB} X双层膜及其耐磨性评估
机译:内压对非平衡等离子射流CVD法制膜过程中成膜速度和成膜质量的影响
机译:RF等离子体CVD的基于Tib基硬膜的成膜和评价
机译:请参见氟碳单体的等离子体聚合行为和乙醇分离膜的利用统计
机译:射频等离子体辅助平面磁控溅射法合成和保护膜的研究