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李乐;
无;
PACVD; 射频 ; 等离子体性能; 氮化碳涂层;
机译:射频等离子体特性对沉积的PACVD CNx层的影响
机译:射频和脉冲直流等离子体通过PACVD方法在轻金属上沉积TiCN和ZrCN层
机译:原位等离子体增强原子层沉积处理对HfO 2 sub> / In 0.53 sub> Ga 0.47 sub>作为金属-氧化物-半导体性能的影响场效应晶体管
机译:预处理等离子体渗氮对PACVD沉积TiN涂层摩擦学性能的影响
机译:大气压非平衡等离子体化学处理金刚石薄膜的等离子体辅助化学气相沉积(PACVD)的实验研究
机译:氩等离子体对原子层沉积Al2O3膜在PET表面沉积的影响
机译:脉冲功率振幅对大功率脉冲等离子体增强化学气相沉积中等离子体性质和膜沉积的影响
机译:基于标称和实测值的太阳能流体性能对热性能的影响
机译:在溅射设备的等离子体室中在基板上进行物理气相沉积(PVD)和等离子体辅助化学气相沉积(PACVD)处理的方法,涉及在基板上获得所需的层厚
机译:通过RF PACVD法在金属层上制备掺杂碳层的方法
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