Diffractive Optical Elements; surface roughness; Reactive Ion Etching; Ion Beam Etching; diffraction efficiency; fused silica; optical surface; simulation;
机译:通过在模拟抗蚀剂上使用电子束直接写法和单一化学辅助离子束刻蚀步骤来制造单质衍射光学元件
机译:RIE在衍射光学元件蚀刻中的滞后
机译:离子束刻蚀对光学元件表面的精密球化
机译:利用离子束刻蚀增强RIE刻蚀的衍射光学元件表面。
机译:使用衍射光学元件(DOE)透镜的天线增益增强和波束成形。
机译:电沉积金纳米线阵列表面等离子体增强光学衍射的表征及应用
机译:使用聚焦离子束的表面波纹和离子蚀刻产量:有或没有增强化学,纵横比调节离子蚀刻
机译:等离子体和离子蚀刻用于失效分析。第2部分。使用Technics Giga Etch 100-E等离子蚀刻系统对塑料封装和其他半导体器件材料进行蚀刻