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【24h】

High-K Ta_2O_5 Film for Resistive Switching Memory Application

机译:用于电阻开关内存应用的高k TA_2O_5薄膜

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摘要

We report a novel nonvolatile resistive switching memory with a Cu/Ta_2O_5/TiN structure. This memory device has low power (100 μA/1.5 V), large threshold voltage of 0.8V, moderate endurance of 102 cycles, and excellent retention with high resistance ratio of 2.4×10~2 after 10~5 s (26 hours). Furthermore, the threshold voltage can be increased by both the thickness of Ta_2O_5 solid electrolyte and annealing temperatures, which can make easier to design the memory circuit.
机译:我们报告了具有Cu / Ta_2O_5 / TIN结构的新型非易失性电阻开关存储器。该存储器件具有低功率(100μA/ 1.5 V),阈值电压大0.8V,适度耐久性为102次循环,并且在10〜5秒(26小时)后的高阻力比为2.4×10〜2。此外,通过Ta_2O_5固体电解质和退火温度的厚度可以增加阈值电压,这可以更容易地设计存储器电路。

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