首页> 中文期刊>电子设计工程 >Vishay发布应用于国防和航天的新款QPL氮化钽薄膜片式电阻

Vishay发布应用于国防和航天的新款QPL氮化钽薄膜片式电阻

     

摘要

目前,Vishay Intertechnology,Inc.(NYSE)宣布,推出通过QPLMIL—PRF-55342测试的新款表面贴装片式电阻——E/H(Ta2N)QPL,保证可靠性达到100ppm的“M”级失效率。新的E/H(Ta2N)QPL电阻使用耐潮的氮化钽电阻膜技术制造,为国防和航天应用提供了增强的性能规格,包括0.1%的容差和25ppm/℃的TCR。

著录项

相似文献

  • 中文文献
  • 外文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号