Atomic layer deposition (ALD); chromia-titania; oxygen annealing; EPMA; XRD; RHEED; Raman spectroscopy; gas response;
机译:后退火对原子层沉积ZnO沟道/ Al2O3-介电薄膜晶体管电学特性的影响
机译:退火对NH3和H-2作为反应物沉积的原子层沉积Ru薄膜性能的影响
机译:快速热退火对原子层沉积Al_2O_3La_2O_3Si和La_2O_3Al_2O_3Si薄膜特性的影响
机译:退火对原子层沉积CR2O3-TiO2薄膜的影响
机译:用于电介质,半导体钝化和固体氧化物燃料电池的原子层沉积薄膜。
机译:厚度和热退火对原子层沉积氧化铝薄膜折射率的影响
机译:厚度和热退火对原子层沉积氧化铝薄膜折射率的影响