EUV sources; EUV lithography; mass-limited source; laser plasma;
机译:等离子体空间轮廓对EUV光刻激光产生等离子体源转换效率的影响
机译:波长接近11 nm的Xe激光等离子体EUV辐射源-优化和转换效率
机译:高频运行对EUV源效率的影响
机译:高效基于锡的EUV源
机译:明亮相干超快速桌面光源的开发以及EUV在软X射线吸收光谱学中的应用。
机译:没有证据表明农场效率与弹性之间存在折衷关系:资源利用效率对土地利用多样性的依赖
机译:等离子体空间分布对EUV光刻激光产生等离子体源转换效率的影响