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公开/公告号CN112162466B
专利类型发明专利
公开/公告日2021-09-07
原文格式PDF
申请/专利权人 中国科学院上海光学精密机械研究所;
申请/专利号CN202010965090.3
发明设计人 孙海轶;王成;王关德;邹家杰;李学红;刘科;张宗昕;齐荣;冷雨欣;
申请日2020-09-15
分类号G03F7/20(20060101);H05G2/00(20060101);
代理机构31317 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙);
代理人张宁展
地址 201800 上海市嘉定区清河路390号
入库时间 2022-08-23 12:25:53
机译: 用于控制EUV光源中目标材料的液滴的系统和方法
机译: 系统涉及一种用于防止EUV产生室中的反弹的液滴收集器,方法和设备
机译:带有液滴靶的激光产生的锡等离子体碎屑的EUV光源成像诊断
机译:激光烧蚀压力驱动的液态锡液滴中的空穴形成,用于极紫外光源目标
机译:一种用于测量中子自旋旋转中奇偶校验违反的液氦靶系统
机译:用于锡靶LPP EUV光源的高平均电力CO_2激光MOPA系统
机译:EUV光刻专用的锡掺杂微滴激光等离子体光源的辐射研究。
机译:通过双液滴数字PCR检测和定量肉制品中的牛肉和猪肉原料
机译:EUV(极端紫外线)光源通过激光产生等离子体使用锡通孔靶
机译:一种改进的六氟化硫气体处理系统,用于潜在的液滴加速器