一种EUV光源锡靶液滴发生装置

摘要

本发明涉及一种EUV光源锡靶液滴发生装置。本发明熔池容纳于腔体内，熔池内容纳锡料；向熔池内供给压力气体使腔内压力保持对外部环境的正压；所述的腔体底部设置喷孔，喷孔的直径在1微米至1000微米范围内；所述的微波源设置于腔体内部和熔池外部；所述的激振元件设置在熔池内，用于对喷孔附近的锡料施加振动扰动；在熔池内部设置红外温度传感器监测锡料的温度。具有加热速度快，加热均匀，能耗低的优点；不需要额外配备锡料预熔和输送装置，同时降低了污染锡料的风险；避免了热电偶等传感器在微波环境中可能出现的打火风险；避免微波作用于锡料产生打火现象。