首页> 外国专利> EUV RADIATION SOURCE, INSERT FOR AN EUV RADIATION SOURCE AND INSERT FOR AN INSERT FOR AN EUV RADIATION SOURCE

EUV RADIATION SOURCE, INSERT FOR AN EUV RADIATION SOURCE AND INSERT FOR AN INSERT FOR AN EUV RADIATION SOURCE

机译:EUV辐射源,插入EUV辐射源,插入EUV辐射源的插入件

摘要

An inner insert for a passage opening in an outer insert for an EUV radiation source is embodied in multiple parts and/or has a plurality of sections that extend in the longitudinal direction and have different internal diameters (di, da).
机译:用于EUV辐射源的外插入件中的通道的内插入件被实施在多个部件中,并且具有沿纵向方向延伸的多个部分并且具有不同的内径(DI,DA)。

著录项

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号