机译:在化学辅助离子束刻蚀系统中GaAs和GaN刻蚀行为的比较
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机译:聚焦电子束诱导的氯气对硅的蚀刻:残留气体污染对蚀刻工艺的负面影响
机译:F / sup-/负离子和SF / sub 3 // sup + /正离子束蚀刻之间的硅蚀刻性能比较
机译:反应离子刻蚀对硅表面和功率器件的电子性能的影响。
机译:金属辅助化学刻蚀法制备硅纳米线及其光催化性能:H2O2浓度的影响
机译:激光辅助化学蚀刻晶体硅的正负色调结构
机译:离子束刻蚀制备高效大孔径透射衍射光栅