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晓青;
无;
等离子体蚀刻; 硅集成电路;
机译:在分子氟气中的等离子体蚀刻料等等离子体蚀刻形成黑色硅特征
机译:电感耦合等离子体蚀刻反应器中氯等离子体和多晶硅蚀刻的表征
机译:在基于HBr / O2的高密度等离子体的多晶硅/氧化物蚀刻中,HBr和氧对蚀刻选择性和蚀刻后轮廓的作用的研究
机译:F / sup-/负离子和SF / sub 3 // sup + /正离子束蚀刻之间的硅蚀刻性能比较
机译:在感应耦合等离子体反应器中研究碳氟化合物沉积和蚀刻对硅和二氧化硅蚀刻工艺的影响(使用三氟化甲基),并开发了用于研究等离子体与表面相互作用机理的反应离子束系统。
机译:使用各向同性电感耦合等离子体蚀刻的硅纳米尖端批量制造
机译:硅腐蚀中使用的混合气体等离子体中化学过程的建模。第1部分:CF4 / O2用于蚀刻硅的气态混合物等离子体中化学过程的建模。第1部分:CF4 / O2
机译:用于监测氯 - 氦等离子体中多晶硅的等离子体蚀刻期间的蚀刻均匀性的光学诊断仪器。
机译:用于等离子体蚀刻装置的硅构件和用于制造用于等离子体蚀刻装置的硅构件的方法
机译:用于等离子体蚀刻装置的硅组分的回收方法和用于等离子体蚀刻装置的硅组分
机译:用蚀刻气体对硅进行无等离子体蚀刻的方法,该方法可用于生产深结构,例如通孔或沟槽,其中硅具有一个或多个要蚀刻为衬底或衬底本身上的层的区域
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