机译:使用SiON BARL处理进行0.25μm以下光刻的CD控制
机译:支持45纳米技术的光学光刻工艺扩展
机译:长时间LCD-TFT光刻工艺中光掩模表面污染的生长机理和抑制技术
机译:深亚微米光学光刻中CD控制的新工艺技术
机译:用于OCDMA和高速网络的光信号处理技术。
机译:具有微流道的可控液体变色镜片用于基于软光刻制造的视力保护伪装和光学过滤
机译:通过光刻和蚀刻工艺进行跨晶圆CD均匀性控制:实验验证
机译:使用深亚微米超大规模集成(VLsI)技术的认知处理器设计的性能和功耗优化