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机译:支持45纳米技术的光学光刻工艺扩展
Acid diffusion; Optical lithography; Overbake; Postexposure bake; Process extensions;
机译:可变形状的电子束光刻技术可为未来的铜镶嵌技术开发工艺
机译:在65纳米和45纳米技术节点的双偶极光刻技术中,潜在的曝光工具引起的临界尺寸和重叠误差的大小
机译:微光学和光刻模拟是掩模对准器中阴影印刷光刻的关键技术
机译:将193 nm干法光刻技术扩展到45 nm半间距节点:双重曝光和双重处理技术
机译:光信号处理,用于实现高速,高光谱效率和高容量的光学系统。
机译:从工作台到床头的光学诊断和生物光子方法特别部分:使用能够实现无标记诊断的光学纳米技术检测系统检测卵巢癌的新型生物标志物
机译:用双图案化过程对光学光刻延伸的重要挑战
机译:光学技术apOLLO扩展系统,阶段a,第1卷。第1和第2部分 - 计划结果和光学技术开发计划最终技术报告