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微光学元件芯模的光刻工艺研究

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摘要

光刻法作为微光学元件的主要生产工艺,如何提高光刻加工工艺已经成为一个日益紧迫的问题.本文使用北京化学试荆研究所生产的BP-213系列紫外正型光刻胶,以分辨率板直接作为参考对象来判删光刻工艺的分辨率,并且在优化各控制变量的前提下,得出最佳工艺参数井对噪声进行分析.

著录项

来源
《中国西部科技》 |2008年第6期|10-12|共3页
作者
李平贵; 龚勇清; 何兴道; 刘智怀; 张贵红;
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作者单位

南昌航空大学;

自动化学院;

江西;

南昌;

330063;

南昌航空大学;

自动化学院;

江西;

南昌;

330063;

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自动化学院;

江西;

南昌;

330063;

南昌航空大学;

自动化学院;

江西;

南昌;

330063;

南昌航空大学;

自动化学院;

江西;

南昌;

330063;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类半导体技术;
关键词
微光学; 分辨率; 光刻胶; 最佳参数;

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