法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2016-07-06
授权
授权
2014-01-22
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20130903
实质审查的生效
2013-12-25
公开
公开
机译: 灰度掩模的制造方法,灰度掩模,微光学元件的制造方法,微光学元件和曝光装置
机译: 灰度掩模的制造方法,灰度掩模,微光学元件,微光学元件的制造方法以及曝光装置
机译: 具有基于衍射的微光学元件的光学可变设备,创建方法相同的方法以及使用方法相同的物品