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制作微光学元件的半色调掩模编码方法

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摘要

制作微光学元件的半色调掩模编码方法，用于制作连续面形的轴对称微光学元件，其特征在于：首先对轴对称元件面形函数f(r)作贝赛尔－傅利叶变换得到其空间频谱分布函数g(ρ)，由此确定面形函数的最高截止频率B，其次根据零阶贝赛尔函数的根λ

1. 制作微光学元件的半色调掩模编码方法 [P] . 中国专利： CN1553372A . 2004-12-08
2. 基于掩模光刻技术和注塑成型制作衍射微光学元件的方法 [P] . 中国专利： CN103472682A . 2013-12-25
3. Method of manufacturing a gray-scale mask, a gray scale mask, a method for producing micro-optical elements, micro-optical element and an exposure apparatus [P] . 日本专利： JP5445116B2 . 2014-03-19

机译：灰度掩模的制造方法，灰度掩模，微光学元件的制造方法，微光学元件和曝光装置
4. METHOD OF MANUFACTURING GRAY SCALE MASK, THE GRAY SCALE MASK, METHOD OF MANUFACTURING MICRO OPTICAL ELEMENT, THE MICRO OPTICAL ELEMENT, AND EXPOSURE DEVICE [P] . 日本专利： JP2011133626A . 2011-07-07

机译：灰度掩模的制造方法，灰度掩模，微光学元件，微光学元件的制造方法以及曝光装置
5. HALFTONE PHASE SHIFT PHOTOMASK BLANK, MAKING METHOD, AND HALFTONE PHASE SHIFT PHOTOMASK [P] . KR102243226B1 . 2021-04-22

机译：半色调相移光掩模坯料，制作方法和半色调相移光掩模