hetero-epitaxy; hot-wall; CVD; HCl;
机译:透射电子显微镜观察3C-SiC(110)和3C-SiC(100)虚拟衬底上外延石墨烯的生长
机译:用于3C-SiC(100)生长的Ge修饰的Si(100)衬底
机译:使用六甲基二硅烷单源前驱体通过APCVD在Si(100)衬底上异质外延生长单3C-SiC薄膜
机译:通过HCl生长添加剂增加3C-SiC对Si(100)底物的增长率
机译:在非晶衬底和用于3D集成电路的高性能亚100 nm薄膜晶体管上的纳米图形引导的单晶硅生长。
机译:使用3C-SiC-on-Si在气相生长中生长大面积无应力且类似块状的3C-SiC(100)
机译:生长速率对(100)si衬底上3C-siC薄膜残余应力的影响