机译:用于193 nm光刻的分辨率提高材料,其包含2-羟基苄醇和聚乙烯醇,且具有均匀的抗蚀剂图案收缩率
机译:用于193 nm光刻的分辨率提高材料,其包含2-羟基苄醇和聚乙烯醇,且具有均匀的抗蚀剂图案收缩率
机译:分析和表征193nm抗蚀剂收缩
机译:电子束曝光后193 nm光致抗蚀剂
机译:用于193 nm曝光的光致抗蚀剂材料的合成
机译:电子束辐射对勃姆石/ HDPE纳米复合膜机械和热收缩性能的影响
机译:193-NM光刻的分辨率增强材料,包括2-羟基苄醇和具有均匀抗蚀剂图案收缩的聚(乙烯醇)
机译:193nm准分子激光曝光过程中单晶氧化锌的锌离子和中性发射。