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王力元; 郭昕; 褚战星;
中国感光学会;
丙烯海松酸; 三乙基醚化合物; 光致抗蚀剂;
机译:短时间氟碳等离子体暴露下193 Nm光致抗蚀剂降解的研究Ⅲ。碳氟化合物薄膜和初始表面条件对光致抗蚀剂降解的影响
机译:在短时间碳氟化合物等离子体曝光期间193 nm光致抗蚀剂降解的研究。一,改性层形成的研究
机译:在短时间碳氟化合物等离子体曝光期间对193 nm光致抗蚀剂降解的研究。二。光刻胶降解的等离子体参数趋势
机译:交联型阳性193nm光致抗蚀剂材料的研究
机译:用于193 nm曝光的光致抗蚀剂材料的合成
机译:TAK-071一种具有低合作性的新型M1正颠型调节剂具有少量胆碱能副作用的啮齿动物中的认知功能
机译:有机和无机光学材料的特殊用品。使用光灭绝形成侧氨基的正型光致抗蚀剂。共聚单体对光致抗蚀剂溶解性改变和敏感性的影响。
机译:一种新型空间应用紧凑型隔振系统的研究
机译:正型光致抗蚀剂的组成和由此制造的正型光致抗蚀剂膜
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