EUV mask; thin absorber; phase-shifting effect;
机译:使用现有光掩模制造能力制造用于EUV光刻的自对准交替相移光掩模的简单方法
机译:使用现有的照片掩模制造能力制造用于EUV照片光刻的自对准交替相移照片掩模的简单方法
机译:带有遮光边框的薄吸收剂极紫外光刻掩模,适用于全视场扫描仪:掩模工艺会改变平整度和图像放置
机译:用于EUV干涉光刻的新型高对比度相移掩模
机译:EUV掩模技术的主要挑战:光化掩模检测和掩模3D效果。
机译:使用极端紫外(EUV)辐射和EUV诱导的氮等离子体的聚醚醚酮(PEEK)的物理化学表面改性
机译:新型EUV面罩吸收器评估支持下一代EUV成像