excimer; laser; bandwidth; optical; lithography; focus; resolution; chromatic; aberrations; proximity; illumination; gaussian; modified lorentzian;
机译:基于光学邻近效应校正的受限光学邻近效应校正模式生成-基于模型的光学邻近效应校正中的可制造性规则设计
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机译:浸入光刻下的光学接近校正(OPC)
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