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光学邻近校正(OPC)方法以及使用OPC方法制造掩模的方法

摘要

一种光学邻近校正方法包括:提取掩模上的图案的布局的边缘,边缘包括该布局的作为曲线边缘的至少一个边缘;以及通过对所提取的布局的边缘应用边缘滤镜来生成图案的光学图像,该边缘滤镜包括与曲线边缘的角度对应的任意角度滤镜。可使用源扇区旋转来生成任意角度滤镜以与曲线边缘的角度对应。

著录项

  • 公开/公告号CN112462570A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-03-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 三星电子株式会社;

    申请/专利号CN202010818384.3

  • 发明设计人 吕尚哲;崔南柯;

    申请日2020-08-14

  • 分类号G03F1/36(20120101);G03F7/20(20060101);

  • 代理机构11112 北京天昊联合知识产权代理有限公司;

  • 代理人赵南;张青

  • 地址 韩国京畿道

  • 入库时间 2023-06-19 10:08:35

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-08-05

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 1/36 专利申请号:2020108183843 申请日:20200814

    实质审查的生效

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