Optical Proximity Correction (OPC) Under Immersion Lithography

机译：浸入光刻下的光学接近校正（OPC）

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Ahmed Awad; Atsushi Takahashi; Chikaaki Kodaman;
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年度 2018
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2. Pellicle contribution to optical proximity and critical dimension uniformity for 1.35 numerical aperture immersion ArF lithography [J] . Lieve Van Look, Joost Bekaert, Bart Laenens, Journal of microanolithography, MEMS, and MOEMS . 2011,第1期

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3. Pellicle contribution to optical proximity and critical dimension uniformity for 1.35 numerical aperture immersion ArF lithography [J] . Lieve Van Look Joost Bekaert Bart Laenens Geert Vandenberghe Jan Richter Karsten Bubke Jan Hendrik Peters Koen Schreel and Mircea Dusa Journal of Micro/Nanolithography,MEMS,and MOEMS . 2011,第1期

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