机译:表面锚定的金属有机框架作为气体辅助电子梁光刻的多功能抗蚀剂:亚10纳米结构的制造
机译:一种使用负性基于Novolak的电子束抗蚀剂制造大面积高分辨率,高深宽比硅结构的工艺
机译:用于单电子晶体管制造的锥点的纳米图案和负电子束抗蚀剂的纳米收缩
机译:用于电子束掩模罩制造的CMS替代抗蚀剂的比较评价结果
机译:电子束生成等离子体中高级抗蚀剂蚀刻的比较。
机译:CUO / PMMA聚合物纳米复合材料作为电子束光刻的新型抗蚀剂材料
机译:使用等离子体接枝苯乙烯抗蚀剂和电子束或同步辐射激发蚀刻的亚100nm图案制造。
机译:DHDECmp(二己基-N,N-二乙基氨基甲酰基 - 甲基膦酸酯)和CmpO(辛基苯基-N,N, - 二异丁基氨基甲酰基甲基膦氧化物)作为从硝酸废物流中回收act系元素的萃取剂的对比评价