退出
我的积分:
中文文献批量获取
外文文献批量获取
赵珉; 陈宝钦; 刘明; 任黎明; 谢常青; 朱效立; 安南;
中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成实验室,北京100084;
北京大学物理学院,北京100871;
国家纳米科学中心,北京100080;
纳米制造; 电子束光刻; 工艺技术; 电子束抗蚀剂; Calixarene;
机译:用于纳米制造电子束光刻的耐酸性树脂抗蚀剂
机译:倍半硅氧烷氢化氢作为负电子束抗蚀剂的高对比度工艺研究
机译:新型电子束光刻抗蚀剂SML的表征及其与PMMA和ZEP抗蚀剂的比较
机译:新型经验模型在化学放大抗蚀剂中将新的经验模型应用于电子束光刻工艺
机译:用于电子束光刻的无机抗蚀剂的开发:新型材料和模拟。
机译:CUO / PMMA聚合物纳米复合材料作为电子束光刻的新型抗蚀剂材料
机译:MR-POSEBR:高分辨率电子束光刻和3D表面图案的新型正音抗蚀剂
机译:继续开展高灵敏度X射线和电子束抗蚀剂工艺研究
机译:使用新型改进的KRS抗蚀剂系统将电子束应用于掩膜制作
机译:萘酚型Calixarene化合物,制备方法,光敏组合物,抗蚀剂和涂膜
抱歉,该期刊暂不可订阅,敬请期待!
目前支持订阅全部北京大学中文核心(2020)期刊目录。